掃描電鏡/掃描電子顯微鏡
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Park NX-Hivac通過為失效分析工程師提供高真空環境來提高測量敏感度以及原子力顯微鏡測量的可重復性。與一般環境或干燥N2條件相比,高真空測量具有準確度好、可重復性好及針尖和樣本損傷低等優點。
高精度探針針尖變量的亞埃米級表面粗糙度測量,晶圓的表面粗糙度對于確定半導體器件的性能是至關重要的,對于先進的元件制造商,芯片制造商和晶圓供應商都要求對晶圓商超平坦表面進行更精確的粗糙度控制。
對于工程師來說,識別介質/平面基底的納米級缺陷的任務是一個非常耗時的過程,Park NX-HDM原子力顯微鏡系統可以自動缺陷識別,通過與各種光學儀器的聯用可以提高缺陷檢測效率。
Park Systems推出NX-3DM全自動原子力顯微鏡系統,專為垂懸輪廓、高分辨率側壁成像和臨界角的測量而設計。
CSI是一家法國科學設備制造商,擁有專業的AFM設計概念,以及為現有的AFM提供設計選項。它避免了激光對準需要預先定位針尖的系統,針尖/樣品的頂部和側視圖,結合垂直的馬達控制系統,使預先趨近更加容易。
EM-AFM可在SEM中同時提供原子力顯微鏡成像和納米機械測量。它綜合了這兩種技術的優點,可高速獲得高分辨率的三維圖像,并且在微納米和亞納米尺度上實時觀察納米級力的相互作用,與常規SEM/FIB兼容,
SU3900/SU3800 SE系列作為FE-SEM產品,配置超高分辨率與觀察能力。此系列突破了傳統SEM產品受安裝樣品尺寸與重量的限制,通過簡單的操作即可實現數據采集。可用于鋼鐵等工業材料,汽車、航空航天部件等超大、超重樣品的觀察。 此外,SE系列包括4種型號(兩種類型,兩個等級),滿足眾多領域的測試需求。用戶可以根據實際用途(如微觀結構控制:用于改善電子元件、半導體等材料的功能和性能;異物、缺陷分析:用于提高產品品質)選擇適合的產品。
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