原子力顯微鏡在半導(dǎo)體失效分析（Failure Analysis）中的解決方案

來源：布魯克納米表面儀器部      分類：應(yīng)用方案 2025-05-26 14:45:18 194閱讀次數(shù)

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標(biāo)題：AFM表征納米形貌與物化特性助力半導(dǎo)體失效分析

時間：2024年5月28日星期三23：00（北京時間）

2025年5月28日星期三8：00（太平洋夏令時間）

概要：布魯克的原子力顯微鏡（AFM）憑借其卓越的納米級分辨率，在半導(dǎo)體行業(yè)飽受贊譽(yù)。它不僅能夠精確捕捉樣品表面的細(xì)微結(jié)構(gòu)（如量測Trench，Height，CD，SideWall等特征），更能在失效分析中展現(xiàn)獨特優(yōu)勢，通過測量電、磁、熱、機(jī)械性能以及化學(xué)組成等詳細(xì)數(shù)據(jù)，揭示潛在失效問題的根源。參與此次網(wǎng)絡(luò)研討會，您將深入了解以下內(nèi)容：

• 失效分析常用模式的應(yīng)用與限制；

• 硅基器件及其他材料的案例分享；

• 關(guān)鍵量測中的實用技巧；

現(xiàn)在注冊，我們共同探討最適合失效分析的AFM模式，為實際工作制定出更為精準(zhǔn)有效的解決方案！

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Bruker Nano Surfaces and Metrology

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