產品介紹:
TESCAN AMBER X 是wan美結合了分析型等離子 FIB 和超高分辨(UHR)掃描電鏡的綜合分析平臺,能夠很好的應對傳統的 Ga 離子 FIB-SEM 難以完成的困難挑戰。
TESCAN AMBER X 配置了氙(Xe)等離子 FIB 鏡筒和 BrightBeam? 電子鏡筒,能夠同時提供gao效率、大面積樣品刻蝕,以及無漏磁超高分辨成像,適用于各類傳統或新型材料的二維成像以及大尺度的 3D 結構表征。擁有 AMBER X 不僅能夠滿足您現階段對材料探索的需求,也為您將來的研究工作做好充分的準備。
AMBER X 等離子 FIB 不但能輕松應對常規的樣品研磨和拋光工作,而且能快速制備出寬度可達1 毫米的截面。氙等離子束對樣品的損傷最小,且不會導致注入引起的污染和非晶化。氙是一種惰性元素,所以可以實現對鋁等材料進行無污染的樣品制備和加工,不用擔心傳統鎵離子 FIB 加工時由于鎵離子污染或注入可能導致的微觀結構和/或機械性能改變。
鏡筒內 SE 和 BSE 探測器經過優化,可以在 FIB-SEM 重合點位置獲得高質量的圖像。TESCAN AMBER X 更有利于安裝各類附件的幾何設計為樣品的綜合分析提供了前所未有的潛力,而且還能夠進行多模態的 FIB-SEM 層析成像。
TESCAN Essence? 是一款支持用戶可根據需求自定義界面的模塊化軟件。因此,TESCAN AMBER X 可以輕松的從一個多用戶、多用途的工作平臺轉變為用于gao效率、大面積 FIB 樣品加工的專用工具。
主要特點:
● gao效率、大面積樣品刻蝕,zui大寬度可達1毫米的截面。
● 無鎵離子污染的樣品加工。
● 無漏磁的場發射掃描電鏡,實現超高分辨成像和顯微分析。
● 鏡筒內二次電子和鏡筒內背散射電子探測器。
● 束斑優化,可確保gao效率、多模態 FIB-SEM 斷層掃描的效果。
● 超大的視野范圍,便于樣品導航。
● 可輕松操作的模塊化電鏡控制軟件 Essence?。
(離子光學系統)視野范圍: | 1 mm | (離子光學系統)探針電流: | 1 pA – 2 μA |
(離子光學系統)分辨率: | <15 nm @ 30 keV | (離子光學系統)發射源: | 氙等離子 |
(電子光學系統)視野范圍: | 7 mm @ WD=6 mm, >50 mm @ zui大工作距離 | (電子光學系統)探針電流: | – 400 nA |
(電子光學系統)分辨率: | 0.9 nm @15 keV | (電子光學系統)發射源: | 肖特基場發射 |
儀器分類: | FIB-SEM | 價格區間: | 1000萬-1500萬 |
產地: | 進口 |
報價:面議
已咨詢4378次聚焦離子束顯微鏡
報價:面議
已咨詢4760次聚焦離子束顯微鏡
報價:面議
已咨詢6965次掃描電鏡/掃描電子顯微鏡
報價:¥8000000
已咨詢264次FIB 聚焦離子束顯微鏡
報價:¥10000
已咨詢614次雙束聚焦掃描電鏡FIB-SEM
報價:面議
已咨詢5007次掃描電鏡/掃描電子顯微鏡
報價:面議
已咨詢4500次聚焦離子束顯微鏡
報價:¥10000000
已咨詢241次FIB 聚焦離子束顯微鏡
SU3900/SU3800 SE系列作為FE-SEM產品,配置超高分辨率與觀察能力。此系列突破了傳統SEM產品受安裝樣品尺寸與重量的限制,通過簡單的操作即可實現數據采集。可用于鋼鐵等工業材料,汽車、航空航天部件等超大、超重樣品的觀察。 此外,SE系列包括4種型號(兩種類型,兩個等級),滿足眾多領域的測試需求。用戶可以根據實際用途(如微觀結構控制:用于改善電子元件、半導體等材料的功能和性能;異物、缺陷分析:用于提高產品品質)選擇適合的產品。
1波長范圍:400 - 1000 nm 2每一像素同時檢測時間(ToA)和強度(ToT)3時間分辨率1.6 ns,有效幀速率> 500 MHz 4無損、數據驅動讀出速度高達80 Mhits / s
高性能電子光學系統 二次電子分辨率: 頂位二次電子探測器(2.0 nm at 1kV)* 高靈敏度: 高效PD-BSD, 超強的低加速電壓性能,低至100 V成像 大束流(>200 nA): 便于高效微區分析 性能優異 壓力可變: 具有優異的低真空(10 -300 Pa)成像性能,配備高靈敏度低真空探測器(UVD)* 開倉室快速簡單換樣(Z大樣品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH) 微區分析: EDS, WDS, EBSD等等
ParticleX TC 全自動汽車清潔度分析系統 取代傳統顆粒物清潔度檢測方法,允許工程師看見微米尺寸的顆粒并確定其化學成分,從而判斷出污染源。