產品介紹:
Multimode 8-HR
MultiMode? 測試平臺作為歷史悠久的經典機型,由于其卓 越的分辨率與性能享譽至今。Multimode 8-HR 原子力顯微鏡通過高速PeakForce Tapping ?、增強的 PeakForce QNM?、全新的 FASTForce Volume和獨 家布魯克探針技術,在成像速度、分辨率和納米機械性能方面有了進一步的改進,使得綜合性能顯著提升。
特征
NanoScope 開放工具箱
MultiMode 8-HR 提供了多種用于監控信號、修改實時操作和實現自定義離線分析的方式。標準 NanoScope? 可直接打開 MATLAB數據并導出ASCII 碼。您可以使用Virtual SAM 監控內部信號并對輸入信號進行修改,或選配 SAM lll 擴展您的功能。還可以通過選配納米刻蝕和修改COM界面來控制AFM的功能。您可以利用 NanoScope 開放訪問功能將實驗擴展到標準 AFM 模式之外,以開發獨特的模式來獲取全新的數據。
用于信號輸入和輸出的 NanoScope 控制器。
PeakForce-HR 模塊
使用PeakForce-HR 對聚合物成像。掃描范圍 1 μm ,掃描速度 5 Hz。 樣品由北卡羅來納大學的 S. Sheiko提供。
MultiMode 8-HR 旨在充分利用峰值力輕敲技術,在空氣成像速度加快了6倍,而不會降低圖像質量。
了解有關峰值力輕敲的更多信息先進的環境控制
Multimode 8-HR 具有對樣品加熱和冷卻功能。低溫配件可在 -35°C 至 100°C 的空氣或液體中加熱和冷卻。高溫配件可加熱至 250°C,通常用于研究聚合物相變。變溫功能的獨特之處在于,允許在變溫過程中通入保護氣,防止樣品氧化和尖 端加熱,還可以同時加熱探針,防止探針被污染。環境控制附件既可與加熱/冷卻配件集成在一起,也可作為單獨的環境室選配。
下載環境控制數據表
三聚物的 PeakForce-HR 圖像。從室溫(左)開始,樣品在加熱至 60°C(中間)時熔化,然后在冷卻至 55°C(右)時重新結晶。掃描范圍 3 μm,以 10 Hz 成像。
AFM 模式
用AFM拓展您的應用
憑借一整套出色的AFM成像模式,布魯克能為您每項研究提供適用的 AFM 技術。
基于核心成像模式(接觸模式和輕敲模式),布魯克提供的全套 AFM測試模式,允許用戶探測樣品的電學、磁性等豐富性能。布魯克獨 創的全新的峰值力輕敲技術作為一種新的核心成像模式,已被應用到多種測量模式中,能同時提供形貌、電學和力學性能數據。
了解有關 AFM 模式的更多功能
Multimode 8-HR 數據庫
聚(3-六基乙基苯)(P3HT)有機導電納米線的PF TUNA電流圖,電壓為3V。掃描范圍為 3 μm ,電流從 0 到 80 pA 范圍內變化。
五氧化二氮薄膜的輕敲圖像,掃描范圍為 5 μm。薄膜用作鋰微電池中的正極,并在原始狀態(左)、第 一次放電后(中間)和隨后充電后(右)進行測試。充電/放電循環不可逆地改變了薄膜結構。圖片由法國波城大學的B.Fleutot提供。
用PeakForce HR表征間同立構聚丙烯 (sPP) 和聚乙烯氧化物 (PEO) 共混物。掃描范圍3um,掃描速度5Hz。
PeakForce QNM 圖像揭示了空氣中聚乙烯晶體的分子缺陷。從單個分子的形貌(A) 以及粘附力 (B) 和剛度 (C) 圖可以看出,缺陷位點剛度顯著降低。圖像大小 10 nm。
此模量圖揭示了 ULDPE 連接層與截面包裝材料的 PS/LDPE 密封層之間的微妙過渡。掃描范圍為 3 μm。
通過 PeakForce TUNA 獲得的碳納米管形貌 (A) 和電流 (B) 圖。圖像大小 1 μm。
使用峰值力輕敲得到云母表面原子級分辨率的形貌和粘附力。
使用PF QNM 得到的聚二基硅氧烷 (PDES) 模量圖。在 3 μm 的掃描范圍內,模量從 1.5 到 15 MPa內變化。
報價:面議
已咨詢1185次掃描探針顯微鏡SPM (原子力顯微鏡)
報價:¥2350000
已咨詢76次SPM/AFM 掃描探針原子力顯
報價:面議
已咨詢1242次原子力顯微鏡
報價:面議
已咨詢5551次掃描探針顯微鏡SPM (原子力顯微鏡)
報價:¥500000
已咨詢270次SPM/AFM 掃描探針原子力顯
報價:面議
已咨詢5122次掃描探針顯微鏡SPM (原子力顯微鏡)
報價:面議
已咨詢5047次報價:面議
已咨詢1328次掃描探針顯微鏡SPM (原子力顯微鏡)
Park NX-Hivac通過為失效分析工程師提供高真空環境來提高測量敏感度以及原子力顯微鏡測量的可重復性。與一般環境或干燥N2條件相比,高真空測量具有準確度好、可重復性好及針尖和樣本損傷低等優點。
高精度探針針尖變量的亞埃米級表面粗糙度測量,晶圓的表面粗糙度對于確定半導體器件的性能是至關重要的,對于先進的元件制造商,芯片制造商和晶圓供應商都要求對晶圓商超平坦表面進行更精確的粗糙度控制。
對于工程師來說,識別介質/平面基底的納米級缺陷的任務是一個非常耗時的過程,Park NX-HDM原子力顯微鏡系統可以自動缺陷識別,通過與各種光學儀器的聯用可以提高缺陷檢測效率。
Park Systems推出NX-3DM全自動原子力顯微鏡系統,專為垂懸輪廓、高分辨率側壁成像和臨界角的測量而設計。
CSI是一家法國科學設備制造商,擁有專業的AFM設計概念,以及為現有的AFM提供設計選項。它避免了激光對準需要預先定位針尖的系統,針尖/樣品的頂部和側視圖,結合垂直的馬達控制系統,使預先趨近更加容易。
EM-AFM可在SEM中同時提供原子力顯微鏡成像和納米機械測量。它綜合了這兩種技術的優點,可高速獲得高分辨率的三維圖像,并且在微納米和亞納米尺度上實時觀察納米級力的相互作用,與常規SEM/FIB兼容,