產品介紹:
NanoWizard?V完 美結合了大掃描范圍內的高時空分辨率成像,機動靈活的實驗設計,以及與高端光學顯微鏡系統無縫契合等特點。自動化的實驗設置,校準,以及參數調節為長時間的自調整實驗帶來更多的可能。
了解第五代NanoWizard NanoScience AFM
Nanowizard? V 在自動化方面達到了新的高度,同時提供了一系列新的技術能力和首屈一指的用戶體驗。
· 最 新一代產品充滿各種創新
· 為全 球超過1000家用戶提供一貫的成功保障
· 擁有專注于高分辨成像,快速掃描,和定制化應用的探針研發支持
· 便捷的V8軟件環境
· 無與倫比的易用性
· 多用戶環境的理想選擇
完 美的性能,更高的產出
NanoWizard V是一款卓 越的納米科學研究工具,獨具特色地將技術創新、性能、以及用戶體驗結合在一起。
為新的科學發現鋪平道路
· 低噪音的掃描器和探測系統確保了高分辨的數據和無與倫比的性能
· 高速掃描速率高達400線/秒
· 實時研究動態過程的理想選擇
· 自動化帶來更高的效率和最 大的產能
· 高分辨納米力學成像,包括PeakForce-QI?、PeakForce Tapping?、PeakForce QNM, 和QI在內的多樣化成像模式
· DirectOverlay實現AFM與先進光學顯微技術的絕 佳整合
· 最 新的ExperimentPlanner和ExperimentControl選件
· 眾多的配件用于環境控制、電學測量,以及更多方面
卓 越的性能
· 從原子晶格到大尺度樣品的多樣化成像
· 大量的附加組件
· 拼接功能拓展了AFM的光學視場
· 優化的參數存儲和收藏設定
· 便捷的用戶操作
· 標準化的批量分析程序用于生成統計學相關數據集
· 全自動化的探針和探測器校準
· 捕捉苛刻環境下的快速動態過程
· 追蹤從毫秒到秒至分鐘不同時間尺度下的反應過程
液相中云母的原子晶格形貌圖像,在倒置顯微鏡上以閉環輕敲模式成像。掃描尺寸:10 nm × 10 nm,高度范圍:220 pm
C60H122沉積在高取向熱解石墨(HOPG)上的形貌圖, 在大氣條件下以輕敲模式成像。可以觀察到若干C60H122單分子層,C60H122分子在每層內形成可見的片狀條紋。掃描尺寸:400 nm×400 nm,高度范圍: 1.04 nm
報價:面議
已咨詢1223次掃描探針顯微鏡SPM (原子力顯微鏡)
報價:面議
已咨詢1023次原子力顯微鏡
報價:面議
已咨詢1276次掃描探針顯微鏡SPM (原子力顯微鏡)
報價:面議
已咨詢1221次掃描探針顯微鏡SPM (原子力顯微鏡)
報價:面議
已咨詢598次掃描探針顯微鏡SPM(原子力顯微鏡AFM、掃描隧道顯微鏡STM)
報價:面議
已咨詢5551次掃描探針顯微鏡SPM (原子力顯微鏡)
報價:面議
已咨詢1308次掃描探針顯微鏡SPM (原子力顯微鏡)
報價:面議
已咨詢1215次掃描探針顯微鏡SPM (原子力顯微鏡)
Park NX-Hivac通過為失效分析工程師提供高真空環境來提高測量敏感度以及原子力顯微鏡測量的可重復性。與一般環境或干燥N2條件相比,高真空測量具有準確度好、可重復性好及針尖和樣本損傷低等優點。
高精度探針針尖變量的亞埃米級表面粗糙度測量,晶圓的表面粗糙度對于確定半導體器件的性能是至關重要的,對于先進的元件制造商,芯片制造商和晶圓供應商都要求對晶圓商超平坦表面進行更精確的粗糙度控制。
對于工程師來說,識別介質/平面基底的納米級缺陷的任務是一個非常耗時的過程,Park NX-HDM原子力顯微鏡系統可以自動缺陷識別,通過與各種光學儀器的聯用可以提高缺陷檢測效率。
Park Systems推出NX-3DM全自動原子力顯微鏡系統,專為垂懸輪廓、高分辨率側壁成像和臨界角的測量而設計。
CSI是一家法國科學設備制造商,擁有專業的AFM設計概念,以及為現有的AFM提供設計選項。它避免了激光對準需要預先定位針尖的系統,針尖/樣品的頂部和側視圖,結合垂直的馬達控制系統,使預先趨近更加容易。
EM-AFM可在SEM中同時提供原子力顯微鏡成像和納米機械測量。它綜合了這兩種技術的優點,可高速獲得高分辨率的三維圖像,并且在微納米和亞納米尺度上實時觀察納米級力的相互作用,與常規SEM/FIB兼容,